而在这套HEUV-300C的基础上，海湾科技那边正在积极推进改进型号，也就是HEUV-300D型光刻机……这将会是这一系列光刻机的终极改进型号，其最大的性能特征就是把套刻精度提升到一纳米，用以满足EUV光刻机双重曝光，也就是等效三纳米以下工艺的大规模生产要求。
简单来说，其效果就是能够大幅度提升EUV双重曝光的良率，降低等效三纳米乃至未来等效二纳米等先进芯片的成本。
现在的HEUV-300C光刻机，虽然在技术指标上能够生产等效三纳米工艺的芯片，但是良率不高，成本昂贵。
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只不过目前的HEUV-300D光刻机，还处于原型机制造阶段，要生产并供货，最早也要到明年去了，而要等到HEUV-300D光刻机安装调试完成，并进行大规模量产，那最早也得后年去了。
时间太久了，智云集团等不了那么长的时间。
因此智云微电子前期的等效三纳米工艺的生产，只能依靠HEUV-300C光刻机了。
而压榨现有光刻机的物理极限，制造更先进的芯片，这也是智云微电子非常擅长的领域。
在DUV浸润式光刻机时代里，智云微电子就曾经使用HDUV-600系列光刻机，通过四重曝光技术生产等效七纳米工艺……甚至当时一度还尝试过用这个光刻机玩八重曝光，搞等效五纳米工艺呢，这是个无比疯狂的技术。
不过没多久EUV光刻机就已经量产并投入使用，因此这个疯狂计划被放弃了。
但是这也导致了，智云微电子在多重曝光领域里的技术积累非常深厚。
现在，智云微电子也在EUV光刻机上继续玩多重曝光技术，并且准备用性能稍微不足的HEUV-300C光刻机来强行达到大规模量产等效三纳米工艺。
在第三十二厂里，徐申学也在实验室里看到HEUV-300C光刻机通过双重曝光，生产等效三纳米工艺芯片的过程，并且最终还看到了实验芯片成品。
丁成军道：“实际上，目前我们已经能够使用HEUV-300C光刻机以及搭配的其他顶级设备制造出来等效三纳米工艺的芯片，但是目前的技术水平下，良率太低了。”
“目前我们的等效三纳米工艺的良率只有百分之四十，使用这个良率生产芯片的话，其芯片成本比较高，从商业角度来说得不偿失。”
“我们的目标是在
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