要达到波长的五十分之一，比如我们这DUV干式光刻机的光源波长是193纳米，五十分之一就是三点八六纳米！”
“这种精度的加工，几乎超过普通人的想象！”
“而我们南光之前在生产I-line光刻机镜片以及KRF光源镜片的时候，采用的是国内现有的一些技术，比如小磨头抛光、磁流变抛光等技术。”
“原有的这些技术用来加工DUV光刻机所需要的镜片还不够！”
“而且想要在原来的技术路线想要获得更大的突破，达到蔡司，尼康等厂家的水准难度非常大。”
“为了解决这一问题，我们的研发团队一边现有技术进行研发，一边开发新技术，其中的一项新技术得到了迅速发展，这就是离子束抛光技术。”
说到这个离子束抛光技术的时候，曹星辰整个人都变的激动了起来：
“这项技术虽然也很难研发，为此耗费了我们大量的人力物力，但是真正做出来后效果那是真的好啊！”
“利用该技术我们可以轻易的加工出来满足DUV干式光刻机需求的镜片，甚至后续工艺继续改进后，搞出来DUV浸润式光刻机的镜片也是问题不大！”
DUV干式光光刻机和浸润式光刻机，虽然使用的光源都是ARF光源，但是浸润式光刻机的光源经过超纯水的折射后，波长却是演变为134纳米。
因为两者虽然光源系统看似一样，但是对物镜以及其他子系统的要求是不一样的。
曹星辰继续说着：“甚至在这项技术上继续耕耘下去，未来是能够搞出来精度更高，可用于EUV光刻机所需要的镜片的！”
一代代光科技的技术升级，除了光源系统不断升级进步外，还需要其他诸多子系统的配合，而物镜就是这一系列子系统里最为关键的部分。
以上这两点是影响光刻精度最核心的子系统。
当然，其他方面，比如机台对准等也不能差就是了。
徐申学听着这些话，然后翻看着手中的技术手册，为了照顾徐申学这个不懂技术的人，这份技术手册用简单易懂的方式介绍了眼前的这台DUV干式光刻机的基本情况以及各子系统的情况。
也就是之前徐申学常年给自己挂着一个B级科研名额的外挂，然后闲着没啥事的时候也会经常学习，翻看一些技术，尤其是半导体领域的技术资料。
所以多少也能够看出来这技术资料上描述的各种技术参数，其背后意味着什么！
本章未完，请点击下一页继续阅读！