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叶非点了点头道：“坐吧！”
“接触式和非接触式光刻技术，需要用到光刻胶。”
“所以，接触式小组，你们要联合和光刻胶小组合作。”
接触式光刻技术是指光刻胶与掩膜接触后受光刻光照射的技术。
非接触式光刻技术则是光刻胶与掩膜之间空气或真空隔开后进行光刻。
“是，院长！”接触式小组两位研究员站起身道。
叶非点了点头道：“坐吧！”
叶非道：“我了解到，前段时间炬光科技研发出一种技术，非常适合曝光系统。”
“光场匀化器，爆光系统小组，你们可以和炬光科技的人联系一下，看是否可以合作研究。”
“是，院长！”曝光小组的两位组长道。
“光刻胶、接触式和非接触式光刻技术、曝光系统，这三个研究都是围绕光刻胶研究的。”
“光刻机最难的便是误差，我国这么多年研究光刻机，在理论和技术上早已不是难点。”
“我听说曾经国内有一名大学生，在大学宿舍内，造出了一台光刻机。”
“虽然这台光刻机在制造精度上，没有达到高制程工艺的水平。”
“但是，从这可以看出，我国制造光刻机并不是天方夜谭。”
“但我国之所以无法造出光刻机，难就难在误差这上面。”
众人听到这话，心中点头。
确实如此，整个半导体产业链设备，技术的提升，其实就是在不断缩小制造的误差。
好的光刻机制造出的芯片和差的光刻机制造出的芯片。
外观上来看，差异并不大。
但细致入微的观察，它们的晶体管排列还是有一些差异的。
正是这一些差异，使得芯片的质量差距很大。
毕竟，纳米级芯片，指甲盖大小的芯片上，却拥有上百亿数量的晶体管。
如何让这些晶体管按照芯片设计图纸上的设计，完成的呈现出来。
这就需要对制造过程中的高精度把控。
叶非道：“所以，光刻机的调节系统和随机误差控制，是光刻机最难的部分，也是最核心部分。”
“这两个研究，我会加入进去一起研究。”
调节系统小组和随机误差控制小组的两个小组组长，听到这话，心中有一些安心。
有叶非加入进来，相信他们的研究可以
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